[发明专利]投射曝光设备及减小投射曝光设备的部件的来自动态加速度的形变的方法有效
| 申请号： | 201780062049.1 | 申请日： | 2017-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN109804315B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | S.亨巴彻;E.洛普斯特拉;J.库格勒;B.古珀特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/182 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种半导体光刻的投射曝光系统(1)，包括至少一个部件(22)和支撑装置，该支撑装置具有在部件(22)的至少一个支撑点(27)上作用的至少一个支撑致动器(23)，使得部件(22)的形变减小，其中支撑装置具有致动至少一个支撑致动器(23)的控制单元(28)，其中控制单元(28)配置为在动态加速度作用在部件(22)上期间致动支撑致动器(23)。本发明还涉及一种减小半导体光刻的投射曝光系统的由动态加速度引起的形变的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 曝光 设备 减小 部件 来自 动态 加速度 形变 方法 | ||
【主权项】：
1.一种半导体光刻的投射曝光设备(1)，包括：‑至少一个部件(22)，‑支撑装置，其具有在所述部件(22)中的至少一个支撑位置(27)作用、以使得所述部件(22)的形变减小的至少一个支撑致动器(23)，其中所述支撑装置包括触发所述至少一个支撑致动器(23)的控制单元(28)，其特征在于，所述控制单元(28)配置为在动态加速度作用在所述部件(22)上的事件中触发所述支撑致动器(23)。
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