[发明专利]偏振板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201780054035.5 申请日: 2017-09-01
公开(公告)号: CN109661601B 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 阪上智惠;古川达也;中川弘也 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C09J5/06;C09J11/06;C09J163/00;C09J201/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供即使在高温高湿等环境下也显示优异耐久性的偏振板及其制造方法。一种偏振板,其包含偏振片和在上述偏振片的至少一个面上经由粘接剂层而层叠的保护膜,上述粘接剂层是包含阳离子聚合性化合物、第一产酸剂及第二产酸剂的粘接剂的固化物,上述第一产酸剂是固化温度不足120℃的离子性化合物,并且是构成上述离子性化合物的抗衡阴离子为下述式(1)或(2)所示的阴离子的离子性化合物,上述第二产酸剂是固化温度为120℃以上且利用活性能量射线产生酸的离子性化合物。
搜索关键词: 偏振 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种偏振板,其包含偏振片和在所述偏振片的至少一个面上经由粘接剂层而层叠的保护膜,所述粘接剂层是包含阳离子聚合性化合物、第一产酸剂及第二产酸剂的粘接剂的固化物,所述第一产酸剂是固化温度不足120℃的离子性化合物,并且是构成所述离子性化合物的抗衡阴离子为下述式(1)所示的阴离子或下述式(2)所示的阴离子的离子性化合物,式(1)中,R1为任选具有取代基的C6‑14芳基或任选具有取代基的C3‑14芳香族杂环基,R2~R4相互独立地为C1‑18烷基、任选具有取代基的C6‑14芳基或任选具有取代基的C3‑14芳香族杂环基,所述取代基为C1‑18烷基、卤代C1‑8烷基、C2‑18烯基、C2‑18炔基、C6‑14芳基、C3‑14芳香族杂环基、硝基、羟基、氰基、‑OR5所示的烷氧基或芳氧基、R6CO‑所示的酰基、R7COO‑所示的酰氧基、‑SR8所示的烷硫基或芳硫基、‑NR9R10所示的氨基、或者卤素原子,所述R5~R8为C1‑8烷基、C6‑14芳基或C3‑14芳香族杂环基,所述R9及R10为氢原子、C1‑8烷基、C6‑14芳基或C3‑14芳香族杂环基,[(Rf)aPF6‑a]   (2)式(2)中,Rf表示氢的80%以上被氟原子取代后的、相同或不同的烷基,a为1~5的整数,所述第二产酸剂是固化温度为120℃以上且利用活性能量射线产生酸的离子性化合物。
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