[发明专利]用于监视工艺设备的方法和系统在审
| 申请号： | 201780053766.8 | 申请日： | 2017-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN109642876A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | W·T·特尔;M·J·马斯洛;F·斯塔尔斯;P·C·欣南 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;董典红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种方法涉及通过从衬底的特性的值中去除光刻设备对所述特性的贡献以及一个或多个光刻前工艺设备对所述特性的贡献，来确定在已经由一个或多个工艺设备根据图案化工艺处理所述衬底之后的所述一个或多个工艺设备对所述衬底的所述特性做出的贡献。 | ||
| 搜索关键词： | 工艺设备 衬底 图案化工艺 光刻设备 光刻 去除 监视 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：由硬件计算机系统通过从衬底的特性的值中去除光刻设备对所述特性的贡献以及一个或多个光刻前工艺设备对所述特性的贡献，来确定在已经由一个或多个工艺设备根据图案化工艺处理所述衬底之后的所述一个或多个工艺设备对所述衬底的所述特性做出的贡献。
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