[发明专利]用于EUV投射光刻的投射光学单元

摘要

一种用于EUV投射光刻的投射光学单元(7)，具有用于以照明光(3)将物场(4)成像至像场(8)的多个反射镜(M1至M10)。反射镜中的至少一个反射镜(M1，M9，M10)实施为NI反射镜且反射镜中的至少一个反射镜(M2至M8)实施为GI反射镜。在垂直于入射平面(yz)的范围平面(xz)中的至少一个NI反射镜的反射镜尺寸Dx满足以下关系：4LLWx/IWPVmax＜Dx。在入射平面(yz)中的至少一个GI反射镜的反射镜尺寸Dy满足以下关系：4LLWy/(IWPVmax cos(a))＜Dy。在此处，LLWx及LLWy表示投射光学单元(7)在范围平面(xz)及在入射平面(yz)中的光展量，且IWPVmax表示在NI反射镜(M1，M9，M10)的反射表面上及在GI反射镜(M2至M8)的反射表面上的照明光(3)的最大入射角与最小入射角之间的最大差异。a表示在GI反射镜(M2至M8)的反射表面上的中心场点的主射线(16)的入射角。这产生了可优化的投射光学单元，特别是针对非常短的EUV照明光波长。

主权项

1.一种用于EUV投射光刻的投射光学单元(7)，‑包含用于以照明光(3)将物场(4)成像至像场(8)的多个反射镜(M1至M10)，‑其中该反射镜中的至少一个反射镜(M1，M9，M10)实施为NI反射镜并配置使得以中心场点的主射线(16)的最大入射角(AOI)撞击该NI反射镜(M1，M9，M10)的反射表面，该最大入射角小于45°，其中该主射线(16)入射于该反射表面的射线部分及该主射线(16)来自该反射表面的射线部分位于入射平面(yz)中，‑其中该至少一个NI反射镜(M1，M9，M10)在垂直于该入射平面(yz)的范围平面(xz)中的反射镜尺寸Dx满足以下关系：4LLWx/IWPVmax＜Dx，其中，以下适用：‑LLWx：该投射光学单元(7)在该范围平面(xz)中的光展量；‑IWPVmax：分别于相同的位置且于该NI反射镜(M1，M9，M10)的整体反射表面上确定的该照明光(3)的最大入射角与最小入射角之间的最大差异。