[发明专利]用于化学机械抛光的浆料分布设备有效
| 申请号： | 201780039337.5 | 申请日： | 2017-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN109414801B | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | Y-C·杨;S·朱;J·唐;H·吴;S-S·常;P·D·巴特菲尔德;A·J·菲舍;B·J·金 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02;B24B37/04;B24B37/20;B24B37/32;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 汪骏飞;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；以及抛光液分布系统。所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 浆料 分布 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于化学机械抛光的装置，包括：可旋转平台，具有用以支撑抛光垫的表面；载体头，用以将基板保持与所述抛光垫接触；抛光液分布系统，所述抛光液分布系统包括：分配器，被定位为向所述抛光垫的抛光面的一部分递送抛光液，以及第一屏障，定位在所述抛光面的所述部分之前，且被配置为阻挡使用过的抛光液到达所述抛光面的所述部分。
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