[发明专利]含有聚二甲基硅氧烷的粘接剂有效

专利信息
申请号: 201780038781.5 申请日: 2017-06-13
公开(公告)号: CN109417026B 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 荻野浩司;榎本智之;新城彻也;泽田和宏;森谷俊介 申请(专利权)人: 日产化学株式会社
主分类号: H01L21/304 分类号: H01L21/304;C09J5/06;C09J11/06;C09J183/04;C09J183/05
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 曾祯;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题是提供在晶片的背面研磨后可以容易地剥离,耐热性、洗涤除去性容易的粘接剂。解决手段是一种粘接剂,是用于在支持体与晶片的电路面之间可剥离地粘接从而对晶片的背面进行加工的粘接剂,通过从支持体侧或晶片侧进行加热而该粘接剂固化,从而能够选择粘接层的剥离时的剥离面。上述粘接剂包含:通过氢化硅烷化反应而固化的成分(A)、和包含聚二甲基硅氧烷的成分(B)。成分(B)为具有1100mm2/s~2000000mm2/s的粘度的聚二甲基硅氧烷。一种叠层体的形成方法,将在第一基体的表面涂布粘接剂而成的粘接层与第二基体的表面接合,从第一基体侧进行加热。一种剥离方法,将在第一基体的表面涂布粘接剂而成的粘接层与第二基体的表面接合,从第一基体侧进行加热从而固化而形成叠层体,然后对叠层体进行加工,在第一基体与粘接层之间发生剥离。
搜索关键词: 含有 聚二甲基硅氧烷 粘接剂
【主权项】:
1.一种粘接剂,是用于在支持体与晶片的电路面之间可剥离地粘接从而对晶片的背面进行加工的粘接剂,通过在该粘接剂固化时从支持体侧进行加热或从晶片侧进行加热,能够控制剥离时的剥离面。
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