[发明专利]真空蒸镀装置

摘要

本发明提供一种可有效地抑制掩膜效应，并使蒸镀物质附着效率良好地成膜的真空蒸镀装置。其具有：蒸镀源(3)，其配置在真空室(1)内；移动装置，其使基板(S)相对于蒸镀源在一个方向上相对移动；以及掩膜材料(4)。以基板相对于蒸镀源的相对移动方向作为X轴方向，基板的宽度方向作为Y轴方向，在蒸镀源的容置箱(31)上喷嘴(32)以规定的间隔在Y轴方向上排列设置。分别位于Y轴方向两端的喷嘴彼此间的间隔根据喷嘴和被成膜物之间的距离(NS)设置为比基板的宽度(Ws)窄。以位于Y轴方向中央区域的各喷嘴作为主喷嘴(32m)，以位置比其更靠Y轴方向各侧的外侧的喷嘴作为副喷嘴(32s)，主喷嘴的喷嘴孔具有与基板(S)相交叉的孔轴(33)，并且副喷嘴的喷嘴孔带有相对于主喷嘴的孔轴向Y轴方向外侧倾斜的孔轴(34)。

主权项

1.一种真空蒸镀装置，具有：蒸镀源，其配置在真空室内；以及移动装置，其使被成膜物相对于该蒸镀源在真空室内的一个方向上进行相对移动；还具有掩膜材料，其介于蒸镀源和被成膜物之间，限定被蒸镀源蒸发了的蒸镀物质对被成膜物的附着范围；其特征在于：以被成膜物相对于蒸镀源的相对移动方向作为X轴方向，以与X轴方向正交的被成膜物的宽度方向作为Y轴方向，蒸镀源具有容置蒸镀物质的容置箱，在该容置箱的与被成膜物相对的面上，升华或气化的蒸发物质的喷嘴以规定的间隔在Y轴方向上排列设置；分别位于Y轴方向两端的喷嘴彼此间的间隔根据喷嘴的前端和被成膜物之间的距离设置为比被成膜物的宽度窄；以位于容置箱的相对面的Y轴方向中央区域的各喷嘴作为主喷嘴，以位置比该中央区域更靠Y轴方向各侧的外侧的至少一个喷嘴作为副喷嘴，主喷嘴的喷嘴孔具有与被成膜物相交叉的孔轴，并且副喷嘴的喷嘴孔具有相对于主喷嘴的孔轴向Y轴方向外侧倾斜的孔轴。