[发明专利]从金属结构上去除铝-硅涂层的方法及制备磁性部件的相关方法有效
| 申请号： | 201780038411.1 | 申请日： | 2017-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN109328246B | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 小彼得·J·博尼塔蒂布斯;F·约翰逊;M·邹 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C23G1/32 | 分类号： | C23G1/32;C23C8/04;C23C8/26;H01F1/147;C23F1/00;C23F1/44 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 徐颖聪 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于选择性地去除烧制于金属结构的表面上的铝‑硅涂层的方法。该方法包括在足以去除涂层而基本上不影响金属表面的条件下，使涂层与熔融的氢氧化钾(KOH)接触的步骤。还描述了用于制备磁性部件的方法。它们涉及在氮化步骤之前，使用烧制到表面上的铝‑硅涂层，掩蔽部件表面的预选区域。然后根据本文概述的程序去除涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 金属结构 去除 涂层 方法 制备 磁性 部件 相关 | ||
【主权项】：
1.一种用于选择性地去除烧制在金属结构的表面上的铝‑硅涂层的方法，其包括在足以去除所述涂层而基本上不影响所述金属表面的条件下，使所述涂层与熔融的氢氧化钾(KOH)接触的步骤。
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