[发明专利]光学元件及光学系统装置在审

专利信息
申请号: 201780033662.0 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN109247028A 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 绳田晃史;粟屋信义;田中觉 申请(专利权)人: SCIVAX株式会社
主分类号: G02B3/08 分类号: G02B3/08;G02B5/02
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 梁海莲;余明伟
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种制作容易且能够无浪费地将光导向前方较大范围的光学元件及使用该光学元件的光学系统装置。控制从规定位置(30)入射的光的配光进行出射的光学元件,其具备反射利用部,该反射利用部包括:多个凸结构(15),该凸结构(15)包括能够使来自规定位置(30)的光透过的入射面(11)和使透过该入射面(11)的光沿着规定方向反射的反射面(12);以及出射面(19),其使由反射面(12)反射的光沿着规定的配光方向出射。
搜索关键词: 光学元件 反射 光学系统装置 反射面 入射面 凸结构 出射 配光 方向反射 出射面 光导向 光透过 入射 制作
【主权项】:
1.一种光学元件,其控制从规定位置入射的光的配光进行出射,所述光学元件的特征在于:具备反射利用部,该反射利用部包括:多个凸结构,该凸结构具有能够使来自所述规定位置的光透过的入射面、以及使透过该入射面的光沿着规定方向反射的反射面;以及出射面,其使由所述反射面反射的光沿着规定的配光方向出射。
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