[发明专利]醛和酮的选择性还原

摘要

本发明涉及将特定的醛和酮选择性还原成其相应的醇。

主权项

1.一种制备式(IIa)的化合物的方法，其中，R是H或C1‑C4烷基，或R与碳原子(2)一起形成4至8元脂族环体系，其可被取代；且R1是H；未被取代的芳族环体系或被取代的芳族环体系；未被取代的杂芳族环体系或被取代的杂芳族环体系；未被取代的脂族环体系或被取代的脂族环体系；未被取代的杂脂族环体系或被取代的杂脂族环体系；‑CH3；‑CH2CH3；C3–C10烷基，其可以是直链或支链的，并且可以是部分不饱和的；或C11–C20烷基，其可以是直链或支链的，并且可以是部分不饱和的；或R1与式(IIa)的C‑C双键一起形成5至8元脂族环体系，其可被取代；或5至8元芳族环体系，其可被取代；或R1与式(IIa)的C‑C双键一起形成5至8元杂脂族环体系，其可被取代；或5至8元芳族环体系，其可被取代；或R1与式(IIa)的C‑C双键一起形成5至8元芳族环体系，其可被取代；或5至8元芳族环体系，其可被取代；或R1与式(IIa)的C‑C双键一起形成5至8元杂芳族环体系，其可被取代；或5至8元芳族环体系，其可被取代；且R2是H；‑CH3；‑CH2CH3；或C3–C10烷基，其可以是直链或支链的，并且可以是部分不饱和的；所述方法通过选择性还原式(I)的化合物进行其中R、R1和R2具有与所述式(IIa)的化合物中所限定的含义相同的含义，所述方法的特征在于：在至少一种式(III)的过渡金属催化剂的存在下进行所述选择性还原[M(L)(X)a(L′)b]  (III)，其中M是过渡金属，且X是阴离子，且L'是单齿配体，且L是式(IV)的三齿配体其中R3是直链C1–C4烷基，其可被取代；支链C3–C4烷基，其可被取代；或苯基，其可被取代，且R4是H；直链C1–C4烷基，其可被取代；支链C3–C4烷基，其可被取代；或OC1‑C2烷基，且R5是H；直链C1–C4烷基，其可被取代；支链C3–C4烷基，其可被取代；或OC1‑C2烷基，且或R4和R5形成C4‑C8环体系，其可以是脂族的或芳族的，且R6是H；直链C1–C4烷基，其可被取代；支链C3–C4烷基，其可被取代；或OC1‑C2烷基，且R7是H；直链C1–C4烷基，其可被取代；支链C3–C4烷基，其可被取代；或OC1‑C2烷基，且R8是H；或直链C1–C4烷基，其可被取代；支链C3–C4烷基，其可被取代，且R9是‑CH3或‑CH2CH3，且m是0、1或2，且n是0、1或2，前提条件是m+n的总和为1或2，o是2或3，a是0、1、2或3，b是0、1、2或3，前提条件是a+b的总和为2、3或4。