[发明专利]多个带电粒子束的装置

摘要

提出了一种具有尺寸、取向和入射角可变的总FOV的新多束装置。新装置提供了加速样本观察和使得更多样本可观察的更大灵活性。更具体地，作为在半导体制造工业中检查和/或审查晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具，新装置提供了实现高吞吐量和检测更多种类的缺陷的更多可能性。

主权项

1.一种用于观察样本的表面的多束装置，包括：电子源；在所述电子源下方的聚束透镜；在所述聚束透镜下方的源转换单元；在所述源转换单元下方的物镜；在所述源转换单元下方的偏转扫描单元；在所述物镜下方的样本台；在所述源转换单元下方的束分离器；二次投影成像系统；以及具有多个检测元件的电子检测设备，其中，所述电子源、所述聚束透镜和所述物镜与所述装置的主光轴对准，并且所述样本台保持所述样本，使得所述表面面对所述物镜，其中，所述源转换单元包括小束限制部件和图像形成部件，所述小束限制部件具有多个束限制开口，所述图像形成部件具有多个电子光学元件并且沿所述主光轴可移动，其中，所述电子源生成沿所述主光轴的初级电子束，并且所述聚束透镜使所述初级电子束聚焦，其中，所述初级电子束的多个小束分别穿过所述多个束限制开口，并且由所述多个电子光学元件朝向所述主光轴偏转，以分别形成所述电子源的多个虚像，其中，所述多个小束由所述物镜聚焦到所述表面上，并且因此在所述表面上分别形成多个探测点，并且所述偏转扫描单元使所述多个小束偏转，以分别在所述表面上的观察区内的多个扫描区域之上扫描所述多个探测点，其中，多个二次电子束分别由所述多个探测点从所述多个扫描区域生成，并由所述束分离器引导到所述二次投影成像系统中，所述二次投影成像系统使所述多个二次电子束聚焦并保持所述多个二次电子束分别由所述多个检测元件检测，并且每个检测元件因此提供一个对应的扫描区域的图像信号。