[发明专利]多个带电粒子束的装置有效

专利信息
申请号: 201780019776.X 申请日: 2017-01-27
公开(公告)号: CN108885187B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 任伟明;刘学东;胡学让;陈仲玮 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G01N23/2251 分类号: G01N23/2251
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;李春辉
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 带电 粒子束 装置
【权利要求书】:

1.一种用于观察样本的表面的多束装置,包括:

电子源;

在所述电子源下方的聚束透镜;

在所述聚束透镜下方的源转换单元;

在所述源转换单元下方的物镜;

在所述源转换单元下方的偏转扫描单元;

在所述物镜下方的样本台;

在所述源转换单元下方的束分离器;

二次投影成像系统;以及

具有多个检测元件的电子检测设备,

其中,所述电子源、所述聚束透镜和所述物镜与所述装置的主光轴对准,并且所述样本台保持所述样本,使得所述表面面对所述物镜,

其中,所述源转换单元包括小束限制部件和图像形成部件,所述小束限制部件具有多个束限制开口,所述图像形成部件具有多个电子光学元件并且沿所述主光轴可移动,

其中,所述电子源生成沿所述主光轴的初级电子束,并且所述聚束透镜使所述初级电子束聚焦,

其中,所述初级电子束的多个小束分别穿过所述多个束限制开口,并且由所述多个电子光学元件朝向所述主光轴偏转,以分别形成所述电子源的多个虚像,

其中,所述多个小束由所述物镜聚焦到所述表面上,并且因此在所述表面上分别形成多个探测点,并且所述偏转扫描单元使所述多个小束偏转,以分别在所述表面上的观察区内的多个扫描区域之上扫描所述多个探测点,

其中,多个二次电子束分别由所述多个探测点从所述多个扫描区域生成,并由所述束分离器引导到所述二次投影成像系统中,所述二次投影成像系统使所述多个二次电子束聚焦并保持所述多个二次电子束分别由所述多个检测元件检测,并且每个检测元件因此提供一个对应的扫描区域的图像信号。

2.根据权利要求1所述的装置,其中,归因于所述多个电子光学元件的所述多个小束的偏转角分别被设置,以减小所述多个探测点的离轴像差。

3.根据权利要求2所述的装置,其中,通过沿所述主光轴移动所述图像形成部件,所述多个探测点的节距被一起改变。

4.根据权利要求2所述的装置,其中,所述物镜包括磁透镜和静电透镜。

5.根据权利要求4所述的装置,其中,通过改变所述磁透镜的聚焦能力与所述静电透镜的聚焦能力的比率,所述多个探测点的取向是可选择的。

6.根据权利要求2所述的装置,其中,所述偏转角确保所述多个小束垂直地或基本上垂直地着落在所述表面上。

7.根据权利要求2所述的装置,其中,所述偏转角确保所述多个小束以相同的或基本上相同的着落角倾斜地着落在所述表面上。

8.根据权利要求6所述的装置,其中,所述偏转扫描单元在所述物镜的前焦平面上方。

9.根据权利要求8所述的装置,其中,所述偏转扫描单元使所述多个小束倾斜成以相同的或基本上相同的着落角倾斜地着落在所述表面上。

10.根据权利要求6所述的装置,还包括在所述源转换单元与所述物镜的前焦平面之间的小束倾斜偏转器。

11.根据权利要求10所述的装置,其中,所述小束倾斜偏转器使所述多个小束倾斜成以相同的或基本上相同的着落角倾斜地着落在所述表面上。

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