[发明专利]用于诸如晶片等对象的2D/3D检测的方法在审
| 申请号： | 201780019774.0 | 申请日： | 2017-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN108885095A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 吉莱斯·弗莱斯阔特;阿兰·库特维尔;菲利普·加斯塔尔多 | 申请（专利权）人： | 统一半导体公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G02B21/00;G01N21/956;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 谢攀;刘继富 |
| 地址： | 法国蒙特邦*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种检测诸如包括三维结构(11)的晶片等对象(10)的表面的方法，其使用具有多个光学测量通道(24)的共焦色差装置和色差透镜(13)，色差透镜(13)允许宽频带光源(19)的光学波长聚焦在限定色差测量范围的不同的轴向距离处，该方法包括以下步骤：通过测量由共焦配置的光学测量通道(24)中的至少一些测量通道收集的光在全光谱上的总强度，来获得与在对象(10)上的多个测量点(15)处，实际聚焦在色差测量范围内的对象(10)的界面上的光的强度相对应的强度信息。 | ||
| 搜索关键词： | 光学测量 色差测量 色差透镜 共焦 晶片 聚焦 色差 宽频带光源 测量通道 光学波长 强度信息 三维结构 轴向距离 测量点 配置的 全光谱 种检测 测量 | ||
【主权项】：
1.一种检测对象(10)的表面的方法，对象(10)例如是包括三维结构(11)的晶片，使用具有多个光学测量通道(24)和色差透镜(13)的共焦色差装置，色差透镜(13)使得宽带光源(19)的光波长聚焦在限定了色差测量范围的不同轴向距离处，其特征在于，该方法包括以下步骤：通过测量由共焦配置的光学测量通道(24)中的至少一些测量通道收集的光在全光谱上的总强度，来获得与在对象(10)上的多个测量点(15)处，实际聚焦在色差测量范围内的对象(10)的界面上的光的强度相对应的强度信息。
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