[发明专利]用于自动多区带检测及建模的系统及方法

摘要

一种半导体工具包含：照射源，其用以产生照射光束；一或多个照射光学元件，其用以将所述照射光束的一部分引导到样本；检测器；一或多个收集光学元件，其用以将从所述样本发出的辐射引导到所述检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述检测器。所述控制器经配置以：在跨越所述样本的多个位置处测量对准以产生对准数据、选择用于对准区带确定的分析区域、将所述分析区域划分成具有不同对准标志的两个或多于两个对准区带；使用第一对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第一对准区带的所述对准数据建模，且使用不同于所述第一对准模型的第二对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第二对准区带的所述对准数据建模。

主权项

1.一种半导体工具，其包括：照射源，其经配置以产生照射光束；一或多个照射光学元件，其经配置以将所述照射光束的一部分引导到样本；检测器；一或多个收集光学元件，其经配置以将从所述样本发出的辐射引导到所述检测器；及控制器，其以通信方式耦合到所述检测器，所述控制器包含经配置以执行程序指令的一或多个处理器，所述程序指令经配置以致使所述一或多个处理器：基于由所述检测器响应于来自所述照射光束的照射而进行的对从所述样本发出的辐射的收集而在跨越所述样本的多个位置处测量对准以产生对准数据；选择用于对准区带确定的分析区域，所述分析区域表示所述样本的至少一部分；将所述分析区域划分成具有不同对准标志的两个或多于两个对准区带；使用第一对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第一对准区带的所述对准数据建模；及使用不同于所述第一对准模型的第二对准模型来对所述两个或多于两个对准区带中的至少第二对准区带的所述对准数据建模。