[发明专利]含阳离子型聚合物添加剂的抛光组合物有效
| 申请号： | 201780007928.4 | 申请日： | 2017-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN108495906B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 林越;李常怡 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉;邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供化学机械抛光组合物，其包含：(a)湿法铈土、(b)水溶性阳离子型聚合物或共聚物、(c)芳族羧酸或杂芳族羧酸、及(d)水，其中，该抛光组合物的pH为约3至约6。本发明进一步提供使用本发明的化学机械抛光组合物来化学机械抛光基板的方法。典型地，该基板含有硅氧化物。 | ||
| 搜索关键词： | 阳离子 聚合物 添加剂 抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.化学机械抛光组合物，包含：(a)湿法铈土，(b)水溶性阳离子型聚合物或共聚物，(c)芳族羧酸或杂芳族羧酸，及(d)水，其中该抛光组合物的pH为约3至约6。
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