[发明专利]静电潜像显影用调色剂及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201780002197.4 申请日: 2017-03-15
公开(公告)号: CN107735732B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 土桥一挥 申请(专利权)人: 京瓷办公信息系统株式会社
主分类号: G03G9/087 分类号: G03G9/087;G03G9/08
代理公司: 北京航忱知识产权代理事务所(普通合伙) 11377 代理人: 陈立航
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 静电潜像显影用调色剂包含若干个调色剂颗粒,调色剂颗粒含有结晶性树脂、非结晶性树脂和若干个脱模剂区域。平均1个调色剂颗粒中,调色剂颗粒的截面上分散径50nm以上700nm以下的脱模剂区域的个数是15个以上50个以下。调色剂颗粒的截面上,分散径50nm以上700nm以下的脱模剂区域的合计面积占调色剂颗粒的截面面积的5%以上20%以下。调色剂的X射线衍射光谱中,布拉格角2θ=23.6°的强度值是13000cps以上17000cps以下,相对于布拉格角2θ=23.6°的强度值,布拉格角2θ=24.1°的强度值是20%以上40%以下。
搜索关键词: 静电 显影 调色 及其 制造 方法
【主权项】:
一种静电潜像显影用调色剂,包含若干个调色剂颗粒,所述调色剂颗粒含有粘结树脂以及分散在所述粘结树脂中的若干个脱模剂区域,其特征在于,所述调色剂颗粒中,结晶性树脂和非结晶性树脂作为所述粘结树脂,平均1个所述调色剂颗粒中,所述调色剂颗粒的截面上分散径50nm以上700nm以下的所述脱模剂区域的个数是15个以上50个以下,所述调色剂颗粒的截面上,分散径50nm以上700nm以下的所述脱模剂区域的合计面积占所述调色剂颗粒的截面面积的5%以上20%以下,X射线衍射光谱中,布拉格角2θ=25.6°的强度值是13000cps以上17000cps以下,相对于所述布拉格角2θ=23.6°的强度值,布拉格角2θ=24.1°的强度值是20%以上40%以下。
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