[发明专利]静电潜像显影用调色剂及其制造方法有效
| 申请号: | 201780002197.4 | 申请日: | 2017-03-15 |
| 公开(公告)号: | CN107735732B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
| 发明(设计)人: | 土桥一挥 | 申请(专利权)人: | 京瓷办公信息系统株式会社 |
| 主分类号: | G03G9/087 | 分类号: | G03G9/087;G03G9/08 |
| 代理公司: | 北京航忱知识产权代理事务所(普通合伙) 11377 | 代理人: | 陈立航 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 静电 显影 调色 及其 制造 方法 | ||
静电潜像显影用调色剂包含若干个调色剂颗粒,调色剂颗粒含有结晶性树脂、非结晶性树脂和若干个脱模剂区域。平均1个调色剂颗粒中,调色剂颗粒的截面上分散径50nm以上700nm以下的脱模剂区域的个数是15个以上50个以下。调色剂颗粒的截面上,分散径50nm以上700nm以下的脱模剂区域的合计面积占调色剂颗粒的截面面积的5%以上20%以下。调色剂的X射线衍射光谱中,布拉格角2θ=23.6°的强度值是13000cps以上17000cps以下,相对于布拉格角2θ=23.6°的强度值,布拉格角2θ=24.1°的强度值是20%以上40%以下。
技术领域
本发明涉及一种静电潜像显影用调色剂及其制造方法。
背景技术
专利文献1中公开了一种技术,通过在调色剂颗粒中含有结晶性树脂,兼顾调色剂的耐热贮存性和低温定影性。专利文献1中还公开了一种技术,静电潜像显影用调色剂的X射线衍射光谱中,来自结晶结构的光谱积分强度设为(CC),来自非结晶结构的光谱积分强度设为(AA),这种情况下使比率“(CC)/((CC)+(AA))”达到0.15以上。
〔专利文献〕
专利文献1:日本特开2013-200559号公报
发明内容
专利文献1中,使用结晶性树脂作为构成调色剂颗粒的树脂的主要成分,还指出了结晶性树脂的结晶度越高越好。然而,粘结树脂的结晶度过高时,调色剂容易发生电荷衰减,因此可以认为在高温高湿环境下难以确保调色剂具有充分的带电量。还有,通过本申请发明者的实验,确认到如下事实:在调色剂颗粒含有结晶性树脂、非结晶性树脂和脱模剂的情况下,调色剂容易黏着到图像形成装置内的部件(更具体地来说,载置部件、感光鼓或者显影辊等)上。
本发明是鉴于上述课题而作出的,其目的在于提供一种静电潜像显影用调色剂及其制造方法,该静电潜像显影用调色剂具有优异的耐热贮存性、低温定影性和电荷衰减特性,即使用在连续印刷中也不易发生调色剂黏着(例如,相对于显影套筒的调色剂黏着)。
本发明所涉及的静电潜像显影用调色剂包含若干个调色剂颗粒,所述调色剂颗粒含有粘结树脂以及分散在所述粘结树脂中的若干个脱模剂区域。所述调色剂颗粒中,结晶性树脂和非结晶性树脂作为所述粘结树脂。平均1个所述调色剂颗粒中,所述调色剂颗粒的截面上分散径50nm以上700nm以下的所述脱模剂区域的个数是15个以上50个以下。所述调色剂颗粒的截面上,分散径50nm以上700nm以下的所述脱模剂区域的合计面积占所述调色剂颗粒的截面面积的5%以上20%以下。静电潜像显影用调色剂的X射线衍射光谱中,布拉格角2θ=25.6°的强度值是13000cps以上17000cps以下,相对于所述布拉格角2θ=23.6°的强度值,布拉格角2θ=24.1°的强度值是20%以上40%以下。
本发明所涉及的静电潜像显影用调色剂的制造方法包含熔融混炼工序、粉碎工序和高温处理工序。所述熔融混炼工序中,将至少含有结晶性树脂、非结晶性树脂和脱模剂的调色剂材料进行熔融混炼,得到熔融混炼物。所述粉碎工序中,将所述熔融混炼物进行粉碎,得到含有若干个颗粒的粉碎物。所述高温处理工序中,将所述粉碎物在温度40℃以上60℃以下实施70小时以上120小时以下的高温处理。
〔发明效果〕
根据本发明,能够提供一种静电潜像显影用调色剂及其制造方法,该静电潜像显影用调色剂具有优异的耐热贮存性、低温定影性和电荷衰减特性,即使用在连续印刷中也不易发生调色剂黏着(例如,相对于显影套筒的调色剂黏着)。
附图说明
图1是本发明实施方式所涉及的静电潜像显影用调色剂的X射线衍射光谱的一个例子。
具体实施方式
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