[实用新型]一种太阳能硅片清洗设备有效
申请号: | 201721930325.5 | 申请日: | 2017-12-30 |
公开(公告)号: | CN207624662U | 公开(公告)日: | 2018-07-17 |
发明(设计)人: | 张国瑞 | 申请(专利权)人: | 无锡超亚环保设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214000 江苏省无锡市惠*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种太阳能硅片清洗设备,包括清洗机本体,清洗机本体顶部的一侧设有盖子,盖子上设有手柄,盖子的下方清洗机本体内设有清洗槽,清洗槽内侧设有硅片放置架,清洗槽外壁上设有风干器,清洗槽底部清洗机本体内部设有震头,清洗槽的下方设有换能器和温控器,换能器与震头电性连接,清洗机本体的一端下方设有循环水箱,循环水箱上方设有循环水泵,本实用新型所达到的有益效果是:本实用新型的清洗设备通过设置了换能器和循环水箱,利用换能器的超声波进行清洗,这样清洗更加安全彻底不会对硅片产生影响,循环水箱可以多清洗过的水进行过滤循环,进行二次利用,环保节能。 | ||
搜索关键词: | 清洗机本体 循环水箱 换能器 清洗槽 本实用新型 清洗设备 盖子 清洗 太阳能硅片 清洗槽外壁 手柄 电性连接 二次利用 硅片放置 过滤循环 环保节能 循环水泵 超声波 风干器 温控器 硅片 安全 | ||
【主权项】:
1.一种太阳能硅片清洗设备,包括清洗机本体(1),其特征在于,所述清洗机本体(1)顶部的一侧设有盖子(5),所述盖子(5)上设有手柄(4),所述盖子(5)的下方所述清洗机本体(1)内设有清洗槽(8),所述清洗槽(8)内侧设有硅片放置架(6),所述清洗槽(8)外壁上设有风干器(7),所述清洗槽(8)底部所述清洗机本体(1)内设有震头(9),所述清洗槽(8)的下方设有换能器(10)和温控器(3),所述换能器(10)与所述震头(9)电性连接,所述清洗机本体(1)的一端下方设有循环水箱(14),所述循环水箱(14)上方设有循环水泵(13),所述循环水箱(14)内部设有颗粒收集器(15),且所述颗粒收集器(15)底部设有排污管(18),所述颗粒收集器(15)一端通过水管(12)连接所述清洗槽(8),所述颗粒收集器(15)的另一端通过所述水管(12)连接微滤机(16),所述微滤机(16)底部通过所述水管(12)连接蓄水池(17)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造