[实用新型]一种X射线强度准无损二维成像装置有效
| 申请号: | 201721838242.3 | 申请日: | 2017-12-26 |
| 公开(公告)号: | CN207611151U | 公开(公告)日: | 2018-07-13 |
| 发明(设计)人: | 任宽;江少恩;曹柱荣;姚立;谢旭飞;余波;陈进文;王哲斌;王峰;胡智民;刘慎业;徐涛;赵阳;刘伟;杨志文;董建军;韦敏习;马波;黄天暄;张继彦;丁永坤 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号: | G01T1/29 | 分类号: | G01T1/29;G01T1/16 |
| 代理公司: | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人: | 翟长明;韩志英 |
| 地址: | 621999 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型公开了一种X射线强度准无损二维成像装置,所述的成像装置适用于50eV~80keV的X射线,包括同轴心设置的可调光阑、辅助瞄准装置、X射线成像器件、支撑与调节机构、屏蔽筒与多重X射线成像板。经辅助瞄准装置对靶进行瞄准后,靶发出50eV~80keV的X射线,经X射线成像器件成像到多重X射线成像板上,通过对多重X射线成像板上的多重像进行数据提取、转换与叠加处理,即可还原强度准无损图像。本实用新型的成像装置能够实现50eV~80keV的X射线强度准无损二维成像,将获得的X光像的信息量提升0%~85%,具有广阔且重要应用前景。 | ||
| 搜索关键词: | 无损 二维成像装置 本实用新型 成像装置 瞄准装置 同轴心设置 叠加处理 二维成像 可调光阑 数据提取 无损图像 重要应用 屏蔽筒 对靶 成像 信息量 还原 瞄准 转换 支撑 | ||
【主权项】:
1.一种X射线强度准无损二维成像装置,其特征在于:所述的成像装置适用于50eV~80keV 的X射线,包括同轴心设置的可调光阑(2)、辅助瞄准装置(3)、X射线成像器件(4)、支撑与调节机构(5)、屏蔽筒(6)和多重X射线成像板(7);所述的支撑与调节机构(5)为水平放置的圆筒,辅助瞄准装置(3)卡在圆筒的靠前位置并面向靶(1),X射线成像器件(4)位于辅助瞄准装置(3)中心;所述的可调光阑(2)为圆环形并位于辅助瞄准装置(3)的前方,与支撑与调节机构(5)的圆筒前端面配装;所述的支撑与调节机构(5)通过位于圆筒后部的调节器调节辅助瞄准装置(3)和X射线成像器件(4)的光学指向;所述的屏蔽筒(6)的前端与支撑与调节机构(5)密封连接,后端与多重X射线成像板(7)密封连接,屏蔽筒(6)的中间部分从调节机构(5)到多重X射线成像板(7)之间圆滑过渡;所述的成像装置的工作过程如下:靶(1)发出的可见光在可调光阑(2)打开状态下,通过辅助瞄准装置(3)和支撑与调节机构(5)实现辅助X射线成像器件(4)对靶(1)的瞄准;靶(1)发出的X射线在可调光阑(2)关闭状态下,经过X射线成像器件(4)成像到多重X射线成像板(7)上;通过计算机对多重X射线成像板(7)上的多重X光像进行数据提取、转换和叠加处理,获得强度准无损图像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721838242.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:高纯锗探测器
- 下一篇:一种中子复合探测装置





