[实用新型]一种纳米材料制作设备的离子源及纳米材料制作设备有效

专利信息
申请号: 201721645145.2 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN207474413U 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 毕凯 申请(专利权)人: 嘉兴岱源真空科技有限公司
主分类号: H01J49/16 分类号: H01J49/16;H01J37/08;B82Y40/00
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 姚海波
地址: 314100 浙江省嘉兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种纳米材料制作设备的离子源及纳米材料制作设备,其基座的形状呈“几”字型,基座突出的一端位于箱体内,所述法兰盘固定于基座突出的端面上,所述靶台固定于法兰盘远离基座的侧面,所述基座远离法兰盘的侧面设有凹槽,永磁体设置于基座的凹槽内,若干电磁组件分布于永磁体的周围,使得整体磁性可调、可制作多种纳米材料,扩展了纳米材料制作设备的功能。
搜索关键词: 纳米材料 制作设备 法兰盘 离子源 永磁体 电磁组件 整体磁性 侧面 靶台 可调 字型 制作
【主权项】:
一种纳米材料制作设备的离子源,其特征在于:所述离子源包括箱体、基座、固定于基座上的法兰盘、固定于法兰盘上的靶台、与法兰盘或基座固定连接的永磁体及若干电磁组件,所述基座上还设有氩气通道,所述基座的形状呈“几”字型,基座突出的一端位于箱体内,所述法兰盘固定于基座突出的端面上,所述靶台固定于法兰盘远离基座的侧面,所述基座远离法兰盘的侧面设有凹槽,所述永磁体设置于该凹槽内,若干电磁组件分布于永磁体的周围,所述法兰盘及靶台上设有氩气开口。
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