[实用新型]一种纳米材料制作设备的离子源及纳米材料制作设备有效
申请号: | 201721645145.2 | 申请日: | 2017-11-30 |
公开(公告)号: | CN207474413U | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 毕凯 | 申请(专利权)人: | 嘉兴岱源真空科技有限公司 |
主分类号: | H01J49/16 | 分类号: | H01J49/16;H01J37/08;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 姚海波 |
地址: | 314100 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米材料 制作设备 法兰盘 离子源 永磁体 电磁组件 整体磁性 侧面 靶台 可调 字型 制作 | ||
1.一种纳米材料制作设备的离子源,其特征在于:所述离子源包括箱体、基座、固定于基座上的法兰盘、固定于法兰盘上的靶台、与法兰盘或基座固定连接的永磁体及若干电磁组件,所述基座上还设有氩气通道,所述基座的形状呈“几”字型,基座突出的一端位于箱体内,所述法兰盘固定于基座突出的端面上,所述靶台固定于法兰盘远离基座的侧面,所述基座远离法兰盘的侧面设有凹槽,所述永磁体设置于该凹槽内,若干电磁组件分布于永磁体的周围,所述法兰盘及靶台上设有氩气开口。
2.如权利要求1所述的纳米材料制作设备的离子源,其特征在于:所述电磁组件包括铁芯及缠绕在铁芯周围的电磁线圈。
3.如权利要求2所述的纳米材料制作设备的离子源,其特征在于:所述电磁线圈通过PLC控制器与外部电源连接。
4.如权利要求1所述的纳米材料制作设备的离子源,其特征在于:所述基座中还设有散热块,所述散热块的周围与基座内之间具有间隙,该间隙与氩气通道及氩气开口均连通。
5.如权利要求4所述的纳米材料制作设备的离子源,其特征在于:所述氩气开口的形状为喇叭状。
6.如权利要求1所述的纳米材料制作设备的离子源,其特征在于:所述靶台由石墨材料构成。
7.一种纳米材料制作设备,其特征在于:具有如权利要求1-5任一项所述的纳米材料制作设备的离子源。
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