[实用新型]抗反射的激光匀光装置有效
| 申请号： | 201721542342.1 | 申请日： | 2017-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN207473218U | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 朱晓鹏;陈武辉;赵志英 | 申请（专利权）人： | 北京大族天成半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型在使用匀光管对光纤输出的激光束进行匀化的结构中，增加了反射结构，将被激光照射的材料上的大部分反射光再次反射回匀光管，在提高了激光利用效率的同时，减少了反射造成的影响，实现了结构的长期稳定性，提供了一种结构简单、容易实现、低成本的抗反射激光匀光结构。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 抗反射 匀光 反射 本实用新型 长期稳定性 反射结构 光纤输出 激光照射 匀光结构 匀光装置 低成本 反射光 激光束 匀化 | ||
【主权项】：
抗反射的激光匀光装置，其特征为：整体结构为依次串联排列的光纤、反射结构和匀光管，它们由固定装置固定其相互位置，反射结构位于光纤和匀光管输入端面之间，在反射结构上，光纤输出的光束通过的部分为透光，其他部分为反光。
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