[实用新型]一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统有效
| 申请号： | 201721306854.8 | 申请日： | 2017-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN207216273U | 公开（公告）日： | 2018-04-10 |
| 发明（设计）人： | 李喜玲;郭党委;毕四军 | 申请（专利权）人： | 兰州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京中恒高博知识产权代理有限公司11249 | 代理人： | 乔会霞 |
| 地址： | 730030 甘肃*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。方便了样品的摆放，有样品位置套刻定位槽的存在，使得二次放样位置不会太偏，这样才能在软件及硬件的配合下，校正二次放样位置的偏差，才能进行套刻工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 定位 装置 电子束 曝光 样品 系统 | ||
【主权项】：
一种具有定位装置的电子束曝光机样品套刻系统，包括样品台主体，其特征在于，所述样品台主体上设有至少一个套刻区域，所述套刻区域均包括套刻样品和定位装置，所述定位装置包括至少一个水平设置的套刻定位槽，将套刻样品的长边与套刻定位槽对齐，再进行套刻。
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