[实用新型]一种横向PMOS管及横向PMOS芯片有效

专利信息
申请号: 201721298623.7 申请日: 2017-10-10
公开(公告)号: CN207503987U 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 李科举;王燕晖 申请(专利权)人: 深圳市富满电子集团股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L25/07
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 代理人: 温玉珍
地址: 518000 广东省深圳市福田区深南西*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种横向PMOS管及横向PMOS芯片,所述横向PMOS管包括PMOS开关管和ESD保护电路,所述PMOS开关管的源极设置于其栅极的一侧,所述PMOS开关管的漏极设置于所述栅极的另一侧,所述PMOS开关管的栅氧化层下方区域设置为沟道;所述ESD保护电路分别与所述PMOS开关管的源极和栅极相连接。本实用新型采用主流的CMOS工艺来实现横向的PMOS结构,进而提供一种新的LED显示屏行扫描驱动芯片,以达到降低成本和保证产能供应等目的;不仅能满足LED显示屏行驱动芯片的市场应用,还具有开启电压低和偏差小的优点,且通过增加的ESD保护电路实现了全面的ESD保护,以达到成本低和性能优的特点。 1
搜索关键词: 本实用新型 芯片 源极 行驱动芯片 行扫描驱动 区域设置 市场应用 栅氧化层 电压低 产能 沟道 漏极 主流 保证
【主权项】:
1.一种横向PMOS管,其特征在于,包括PMOS开关管和ESD保护电路,所述PMOS开关管的源极设置于其栅极的一侧,所述PMOS开关管的漏极设置于所述栅极的另一侧,所述PMOS开关管的栅氧化层下方区域设置为沟道;所述ESD保护电路分别与所述PMOS开关管的源极和栅极相连接。

2.根据权利要求1所述的横向PMOS管,其特征在于,所述ESD保护电路包括场效应管PW1、场效应管PW2和电阻R1,所述场效应管PW1的栅极、场效应管PW1的源极、场效应管PW2的栅极以及场效应管PW2的源极均与所述PMOS开关管的源极相连接,所述场效应管PW1的漏极通过所述电阻R1分别连接至所述场效应管PW2的漏极和所述PMOS开关管的栅极。

3.根据权利要求2所述的横向PMOS管,其特征在于,所述场效应管PW1还包括寄生二极管D11,所述寄生二极管D11的阳极连接至所述场效应管PW1的漏极,所述寄生二极管D11的阴极连接至所述场效应管PW1的源极。

4.根据权利要求2所述的横向PMOS管,其特征在于,所述场效应管PW2还包括寄生二极管D12,所述寄生二极管D12的阳极连接至所述场效应管PW2的漏极,所述寄生二极管D12的阴极连接至所述场效应管PW2的源极。

5.根据权利要求2所述的横向PMOS管,其特征在于,所述PMOS开关管还包括寄生二极管D0,所述寄生二极管D0的阳极连接至所述PMOS开关管的漏极,所述寄生二极管D0的阴极连接至所述PMOS开关管的源极。

6.一种横向PMOS芯片,其特征在于,所述横向PMOS芯片包括了如权利要求1至5任意一项所述的横向PMOS管。

7.根据权利要求6所述的横向PMOS芯片,其特征在于,所述横向PMOS芯片包括了至少两个所述横向PMOS管,所述至少两个横向PMOS管封装在同一个横向PMOS芯片中。

8.根据权利要求7所述的横向PMOS芯片,其特征在于,每一个横向PMOS管均设置有独立的输入端和输出端。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市富满电子集团股份有限公司,未经深圳市富满电子集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201721298623.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top