[实用新型]一种阻隔膜有效
| 申请号： | 201720912064.8 | 申请日： | 2017-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN207250549U | 公开（公告）日： | 2018-04-17 |
| 发明（设计）人： | 马志锋;程武;张莉;杜晓峰;孙官恩 | 申请（专利权）人： | 中国南玻集团股份有限公司;深圳南玻应用技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/44 | 分类号： | H01L33/44 |
| 代理公司： | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙)11400 | 代理人： | 葛强,邬玥 |
| 地址： | 518067 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种阻隔膜，涉及导电薄膜技术领域。该阻隔膜的一具体实施方式包括基材；过渡层，设置在基材上；无机光学介质层，设置在过渡层背对于基材的一侧。本实用新型通过设置过渡层，不仅能够提高阻隔膜的水汽阻隔性，还能够增加无机光学介质层与基材之间的附着力，提高阻隔膜的耐候性。进一步地，通过在无机光学介质层背对于过渡层的一侧设置机光学介质层，不仅能够提高阻隔膜的水氧阻隔性能，还能增加无机光学介质层与阻隔膜应用对象之间的附着力，提高阻隔膜的耐侯性。此外，有机光学介质层的硬度较高，能够有效保护无机光学介质层；有机光学介质层表面的达因值高，能够提高阻隔膜的可印刷性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阻隔 | ||
【主权项】：
一种阻隔膜，其特征在于，包括：基材，所述基材为柔性透明基材；过渡层，设置在所述基材上；所述过渡层为硅层；无机光学介质层，设置在所述过渡层背对于所述基材的一侧；所述无机光学介质层为无机透明介质层。
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