[实用新型]一种应用于曝光机的对位平台有效
| 申请号： | 201720828998.3 | 申请日： | 2017-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN207081946U | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 曾凡亮;张超 | 申请（专利权）人： | 深圳市君奕豪科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市深联知识产权代理事务所(普通合伙)44357 | 代理人： | 赵文曲 |
| 地址： | 518131 广东省深圳市龙华*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种应用于曝光机的对位平台，包括固定平台、三个驱动轴和一个从动轴，所述三个驱动轴和所述从动轴以四边形结构依次设置在固定平台的四个方位上，每个驱动轴均连接有一个电机，所有驱动轴和从动轴上均设有可水平旋转的旋转机构，且各旋转机构可沿驱动轴或从动轴所在方位左右移动，所述旋转机构上设有滑台，以及设置在滑台中用于连接曝光机升降机构的微型导轨，以实现曝光机升降机构在XY方向的定位调整，以及在水平面的角度调整，使得本实用新型的结构设计合理，空间布局有序，且XYθ方向可同时动作以实现精准定位对位功能，从而提高了曝光机设备的生产质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 曝光 对位 平台 | ||
【主权项】：
一种应用于曝光机的对位平台，其特征在于，包括固定平台、三个驱动轴和一个从动轴，所述三个驱动轴和所述从动轴以四边形结构依次设置在固定平台的四个方位上，每个驱动轴均连接有一个电机，所有驱动轴和从动轴上均设有可水平旋转的旋转机构，且各旋转机构可沿驱动轴或从动轴所在方位左右移动，所述旋转机构上设有滑台，以及设置在滑台中用于连接曝光机升降机构的微型导轨，以实现曝光机升降机构在XY方向的定位调整，以及在水平面的角度调整。
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