[实用新型]一种应用于曝光机的对位平台有效
申请号: | 201720828998.3 | 申请日: | 2017-07-10 |
公开(公告)号: | CN207081946U | 公开(公告)日: | 2018-03-09 |
发明(设计)人: | 曾凡亮;张超 | 申请(专利权)人: | 深圳市君奕豪科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市深联知识产权代理事务所(普通合伙)44357 | 代理人: | 赵文曲 |
地址: | 518131 广东省深圳市龙华*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 曝光 对位 平台 | ||
1.一种应用于曝光机的对位平台,其特征在于,包括固定平台、三个驱动轴和一个从动轴,所述三个驱动轴和所述从动轴以四边形结构依次设置在固定平台的四个方位上,每个驱动轴均连接有一个电机,所有驱动轴和从动轴上均设有可水平旋转的旋转机构,且各旋转机构可沿驱动轴或从动轴所在方位左右移动,所述旋转机构上设有滑台,以及设置在滑台中用于连接曝光机升降机构的微型导轨,以实现曝光机升降机构在XY方向的定位调整,以及在水平面的角度调整。
2.按照权利要求1所述的应用于曝光机的对位平台,其特征在于,所述固定平台的中间为镂空结构,所述三个驱动轴和所述从动轴依次围绕所述镂空结构的边沿设置在固定平台上。
3.按照权利要求2所述的应用于曝光机的对位平台,其特征在于,所述电机与所述驱动轴之间采用丝杆传动连接。
4.按照权利要求1至3任一项所述的应用于曝光机的对位平台,其特征在于,所述电机为伺服电机。
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