[实用新型]自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统

摘要

本实用新型涉及薄膜制备装置，旨在提供自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统。该种自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统包括预热腔、氧化铝工艺腔、缓冲腔、氮化硅工艺腔、卸料腔，用于对电池片镀氧化铝和氮化硅叠层薄膜。本实用新型能够在太阳能电池片表面镀氧化铝和氮化硅叠层薄膜，氧化铝薄膜能够对电池片起到钝化的作用，氮化硅薄膜能够起到减反的作用，不仅能大幅度的提高产能，并且叠层薄膜能够在一定程度上提高电池片的转换效率。

主权项

一种自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统，用于对电池片镀氧化铝和氮化硅叠层薄膜，其特征在于，所述自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统包括预热腔、氧化铝工艺腔、缓冲腔、氮化硅工艺腔、卸料腔；所述预热腔采用铝制腔体，铝制腔体的内部安装有加热灯管，用于对电池片进行初步加热；所述氧化铝工艺腔采用不锈钢腔体，不锈钢腔体内部安装有加热管A、工艺气体喷气口A、微波源A，所述加热管A用于对电池片进行充分加热，所述工艺气体喷气口A用于作为三甲基铝、一氧化二氮的喷气口，所述微波源A能通过激发等离子体为工艺气体在低温下反应生成氧化铝提供条件；所述缓冲腔采用铝制中空腔体，设置在氧化铝工艺腔与氮化硅工艺腔之间，用于进行过渡；所述氮化硅工艺腔采用不锈钢腔体，不锈钢腔体内部安装有加热管B、工艺气体喷气口B、微波源B，所述加热管B用于电池片进行充分加热，所述工艺气体喷气口B用于作为硅烷、氨气的喷气口，所述微波源B能通过激发等离子体为工艺气体在低温下反应生成氮化硅提供条件；所述卸料腔为铝制中空腔体，用于对电池片进行冷却：通过对卸料腔抽真空并同时通入高纯氮气来实现；预热腔、氧化铝工艺腔、缓冲腔、氮化硅工艺腔、卸料腔分别通过螺栓安装在各自的机架上，并依次利用螺栓相邻连接；预热腔的前端设有翻板阀，用于阻断大气与预热腔之间的气体流通；预热腔与氧化铝工艺腔之间设有翻板阀，用于阻断预热腔与氧化铝工艺腔之间的气体流通；缓冲腔的两端都安装有翻板阀，分别用于阻断缓冲腔与氧化铝工艺腔、氮化硅工艺腔之间的气体流通；氮化硅工艺腔与卸料腔之间设有翻板阀，用于阻断卸料腔与氮化硅工艺腔之间的气体流通；卸料腔的后端设有翻板阀，用于阻断卸料腔与大气之间的气体流通。