[实用新型]表面处理系统和腔体结构

摘要

本实用新型涉及真空设备领域，公开了一种表面处理系统和腔体结构，腔体结构包括料盒、射频电极和接地电极；表面处理系统包括设置有进气模块和抽气口的真空等离子腔体，真空等离子腔体内设置有料盒、射频电极和接地电极。料盒内装有多个标的物，这些标的物在料盒内间隔设置，并使任意相邻的两个标的物之间预留有供气流通过的间隙；料盒的侧壁上设置有若干个通风槽，通风槽和间隙数量相对应设置，使得通风槽和间隙共同构成了经过标的物表面的气流通道；射频电极位于料盒的一侧，且正对气流通道；接地电极至少有一部分位于料盒的另一侧，且正对气流通道。本实用新型能够提高标的物的表面处理效果。

主权项

一种表面处理系统，包括用于清洁标的物(6)的等离子体表面处理设备，其特征在于，所述等离子体表面处理设备包括：设置有进气模块(3)和抽气口(7)的真空等离子体腔体(1)，所述真空等离子体腔体(1)内设置有料盒(2)、射频电极(5)和接地电极(4)；所述料盒(2)内装有多个标的物(6)，这些标的物(6)在所述料盒(2)内间隔设置，并使任意相邻的两个标的物(6)之间预留有供气流通过的间隙(8a)；所述料盒(2)的侧壁上开有若干个通风槽(8b)，所述通风槽(8b)和所述间隙(8a)相对应设置，使得所述通风槽(8b)和所述间隙(8a)共同构成了经过所述标的物(6)表面的气流通道(8)；所述射频电极(5)位于所述料盒(2)的一侧，且正对所述气流通道(8)；所述接地电极(4)至少有一部分位于所述料盒(2)的另一侧，且正对所述气流通道(8)；气体经由所述进气模块(3)进入所述真空等离子体腔体(1)内，在所述射频电极(5)和所述接地电极(4)的电场作用下电离，通过所述气流通道(8)并对所述标的物(6)的表面进行处理，再从所述抽气口(7)中被抽出。