[实用新型]一种新型反射光学成像系统有效

专利信息
申请号: 201720446000.3 申请日: 2017-04-25
公开(公告)号: CN207232503U 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 邱盛平;李建华;甘汝婷 申请(专利权)人: 中山联合光电科技股份有限公司
主分类号: G02B17/02 分类号: G02B17/02
代理公司: 中山市科创专利代理有限公司44211 代理人: 谢自成
地址: 528400 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种新型反射光学成像系统,从物面到像面依次设置有光学元件、反射系统、成像镜头和成像面;所述反射系统包含反射面,反射系统可以根据所需要的视场范围在成像镜头上方任意X、Y、Z坐标空间区域内且包含X、Y、Z坐标轴在内的任意方向和任意位置设定任意一旋转轴,围绕该旋转轴旋转一定的角度,或者使其与该旋转轴成一定的角度A,从而实现成像镜头视场范围外各个角度的光线入射到反射系统的反射面发生全反射然后入射到成像镜头中,即将镜头视场范围外的物体成像在成像面上。本实用新型通过旋转反射系统即可实现镜头视场范围外物体的高清晰成像,便于设计和加工,操作方便、可行、解决了一定的经济成本。
搜索关键词: 一种 新型 反射 光学 成像 系统
【主权项】:
一种新型反射光学成像系统,其特征在于从物面到像面依次设置有光学元件(1)、反射系统(2)、成像镜头(3)和成像面(4);其中所述反射系统(2)包含反射面(21);所述反射系统(2)可以根据所需要的视场范围在成像镜头(3)上方任意X、Y、Z坐标空间区域内且包含X、Y、Z坐标轴在内的任意方向和任意位置设定任意一旋转轴,围绕该旋转轴旋转一定的角度,或者使其与该旋转轴成一定的角度(A),从而实现成像镜头(3)视场范围外各个角度的光线入射到反射系统(2)的反射面发生全反射然后入射到成像镜头(3)中,即将镜头(3)视场范围外的物体成像在成像面(4)上。
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