[实用新型]一种ICP刻蚀机有效
| 申请号： | 201720416663.0 | 申请日： | 2017-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN206628442U | 公开（公告）日： | 2017-11-10 |
| 发明（设计）人： | 梁万国;李广伟;张新汉;陈怀熹;缪龙;冯新凯;邹小林 | 申请（专利权）人： | 福建中科晶创光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/305 |
| 代理公司： | 福州科扬专利事务所35001 | 代理人： | 罗立君 |
| 地址： | 350100 福建省福州市闽侯县上街镇科技东路中*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种ICP刻蚀机，包括竖直截面为U字形的底座和与底座铰接的可开合的上盖；上盖内设置有工作气体进气口和功率源；所述底座内从上至下依次设置有放置晶片的转盘和托盘；所述转盘可在水平方向上转动；所述托盘由一固定在底座内底面的液压装置驱动升降；该刻蚀机可以使离子源更均匀的刻蚀晶片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 icp 刻蚀 | ||
【主权项】：
一种ICP刻蚀机，其特征在于：包括竖直截面为U字形的底座(1)和与底座(1)铰接的可开合的上盖(2)；上盖(2)内设置有工作气体进气口(21)和功率源；所述底座(1)内从上至下依次设置有放置晶片的转盘(11)和托盘(12)；所述转盘(11)可在水平方向上转动；所述托盘(12)由一固定在底座(1)内底面的液压装置(14)驱动升降。
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