[实用新型]一种ICP刻蚀机

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种ICP刻蚀机，是一种离子刻蚀机，属于晶片加工领域。

背景技术

离子刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。当气体以等离子体形式存在时，它具备两个特点:一方面等离子体中的这些气体化学活性比常态下时要强很多，根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀去除的目的；另一方面，还可以利用电场对等离子体进行引导和加速，使其具备一定能量，当其轰击被刻蚀物的表面时，会将被刻蚀物材料的原子击出，从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。因此，干法刻蚀是晶圆片表面物理和化学两种过程平衡的结果。现有的ICP刻蚀机底盘高度可以调节，但是底盘不能旋转，底盘不能旋转，使得离子源无法均匀刻蚀吸在底盘上的晶片。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种ICP刻蚀机。该刻蚀机可以使离子源更均匀的刻蚀晶片。

本实用新型的技术方案如下：

一种ICP刻蚀机，包括竖直截面为U字形的底座和与底座铰接的可开合的上盖；上盖内设置有工作气体进气口和功率源；所述底座内从上至下依次设置有放置晶片的转盘和托盘；所述转盘可在水平方向上转动；所述托盘由一固定在底座内底面的液压装置驱动升降。

其中，所述转盘上方的底座内设置有可阻挡离子束的开合板。

其中，所述开合板包括水平相对设置的左半圆板和右半圆板；左半圆板与右半圆板分别由一转杆驱动转动。

其中，所述底座侧壁上设置有观察窗；所述观察窗上贴覆有减光膜。

其中，所述转盘由一竖直设置在托盘上的第一电机驱动旋转；所述第一电机的转轴固定在转盘中心。

其中，所述转盘由一第一电机驱动旋转；所述转盘外圆周面上设置有外齿；所述第一电机的转轴上固定有与外齿配合的齿轮。

本实用新型具有如下有益效果：

1、本实用新型一种ICP刻蚀机可以使离子源更均匀的刻蚀晶片。

2、本实用新型一种ICP刻蚀机设置有观察窗和可开合的上盖，方便操作和放置晶片，方便检修，方便观察。

3、本实用新型一种ICP刻蚀机设置有开合板，可以在离子束和转盘转速稳定后才开始刻蚀，提高了刻蚀质量。

附图说明

图1为本实用新型一种ICP刻蚀机的实施例一的示意图；

图2为本实用新型一种ICP刻蚀机的实施例二的示意图；

图3为本实用新型一种ICP刻蚀机开合板闭合时的示意图；

图4为本实用新型一种ICP刻蚀机开合板打开时的示意图。

图中附图标记表示为：

1-底座、11-转盘、12-托盘、13-第一电机、131-齿轮、14-液压装置、15-观察窗、16-减光膜、2-上盖、21-工作气体进气口、3-开合板、31-左半圆板、32-右半圆板、33-转杆。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例来对本实用新型进行详细的说明。

实施例一：

如图1所示，一种ICP刻蚀机，包括竖直截面为U字形的底座1和与底座1铰接的可开合的上盖2；上盖2内含有工作气体进气口21和用于电离气体的功率源，功率源为一电离电极；所述底座1内从上至下依次设置有放置晶片的转盘11和托盘12；托盘12与转盘11之间设置有一转轴，所述转盘11由一设置在托盘12一侧的第一电机13驱动旋转；所述转盘11外圆周面上设置有外齿；所述第一电机13的转轴上固定有与外齿配合的齿轮131；所述托盘12由一固定在底座1内底面的液压装置14驱动升降。

进一步的，所述转盘11上方的底座1内设置有可阻挡离子束的开合板3。

进一步的，如图3、4所示，所述开合板3包括水平相对设置的左半圆板31和右半圆板32；左半圆板31与右半圆板32分别由一转杆33驱动转动。

进一步的，所述底座1侧壁上设置有观察窗15；所述观察窗15上贴覆有减光膜16。

实施例二：

如图2所示，一种ICP刻蚀机，包括竖直截面为U字形的底座1和与底座1铰接的可开合的上盖2；上盖2内含有工作气体进气口21和用于电离气体的功率源，功率源为一电离电极；所述转盘11由一竖直设置在托盘12上的第一电机13驱动水平方向旋转；所述托盘12由一固定在底座1内底面的装置14驱动升降；

进一步的，所述底座1侧壁上设置有观察窗15；所述观察窗15上贴覆有减光膜16。

进一步的，所述转盘11上方的底座1内设置有可阻挡离子束的开合板3。