[实用新型]一种真空计隔离装置

摘要

本实用新型公开了一种真空计隔离装置，属于半导体制造技术领域；装置包括一隔离腔室，隔离腔室下方设置有一连接真空计的第一开口，隔离腔室的一侧设置有一连接反应腔体的第二开口，还包括隔离手阀以及第一气体通道，通过一第三开口接入隔离腔室，第一气体通道未连接第三开口的一端连接一惰性气体的气体发生源。上述技术方案的有益效果是能够于更换真空计时减少反应腔体本身与大气的接触，大大降低因更换真空计造成的腔体环境恢复时间，从而提高反应腔体的利用率，减少生产时间的浪费。

主权项

一种真空计隔离装置，适用于真空计，所述真空计应用在半导体制造过程中的各反应腔体上；其特征在于，包括一隔离腔室，所述隔离腔室下方设置有一连接所述真空计的第一开口，所述隔离腔室的一侧设置有一连接所述反应腔体的第二开口，还包括：隔离手阀，包括：伸缩杆，设置于所述隔离腔室内；把手，设置于所述隔离腔室未设置有所述第二开口的一侧的外部，所述把手连接在所述伸缩杆伸出所述隔离腔室的一端；封闭部件，设置于所述隔离腔室内，所述封闭部件连接在所述伸缩杆未连接所述把手的一端，所述封闭部件的尺寸适配于所述第二开口并对所述第二开口形成密封；所述隔离手阀在所述把手的带动下朝向或者背向所述第二开口运动；第一气体通道，通过一第三开口接入所述隔离腔室，所述第一气体通道未连接所述第三开口的一端连接一惰性气体的气体发生源。