[实用新型]一种真空计隔离装置有效

专利信息
申请号: 201720393214.9 申请日: 2017-04-14
公开(公告)号: CN206929377U 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: 万成;陈伟;邰晓东;朱亮;杨贤敏 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: F16K11/044 分类号: F16K11/044;F16K41/10;F16K31/60;G01L21/00
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 俞涤炯
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空计 隔离 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种真空计隔离装置。

背景技术

现有的半导体集成电路制造领域中经常需要用到真空环境,因此真空计的使用非常频繁。传统的真空计是直接安装在反应腔体上的,这样在更换真空计时容易将腔体暴露在大气中从而破坏腔体的真空环境。改进的做法是如图1所示采用隔离手阀将真空计安装在腔体上。图1中开口11连接真空计,开口12连接反应腔体,在正常工作时隔离手阀13开启到开口11处,此时隔离手阀和反应腔体部分均为真空状态。在更换真空计时,隔离手阀13关闭使得反应腔体被密封,在更换真空计的同时在一定程度上阻止大气进入反应腔体。但是上述改进的做法也仅仅能够阻止部分大气进入腔体,并没有完全将腔体与大气隔离,并且隔离手阀13本身也接触大气,因此依然会破坏腔体内的真空环境,更换真空计后腔体的恢复时间仍然过长。

实用新型内容

根据现有技术中存在的上述问题,现提供一种真空计隔离装置的技术方案,旨在于更换真空计时减少反应腔体本身与大气的接触,大大降低因更换真空计造成的腔体环境恢复时间。

上述技术方案具体包括:

一种真空计隔离装置,适用于真空计,所述真空计应用在半导体制造过程中的各反应腔体上;其中,包括一隔离腔室,所述隔离腔室下方设置有一连接所述真空计的第一开口,所述隔离腔室的一侧设置有一连接所述反应腔体的第二开口,还包括:

隔离手阀,包括:

伸缩杆,设置于所述隔离腔室内;

把手,设置于所述隔离腔室未设置有所述第二开口的一侧的外部,所述把手连接在所述伸缩杆伸出所述隔离腔室的一端;

封闭部件,设置于所述隔离腔室内,所述封闭部件连接在所述伸缩杆未连接所述把手的一端,所述封闭部件的尺寸适配于所述第二开口并对所述第二开口形成密封;

所述隔离手阀在所述把手的带动下朝向或者背向所述第二开口运动;

第一气体通道,通过一第三开口接入所述隔离腔室,所述第一气体通道未连接所述第三开口的一端连接一惰性气体的气体发生源。

优选的,该真空计隔离装置,其中,所述伸缩杆包括波纹管以及被包裹在波纹管内的螺杆。

优选的,该真空计隔离装置,其中,于所述第一气体通道上设置有一第一气体阀门。

优选的,该真空计隔离装置,其中,还包括:

第二气体通道,通过一第四开口接入所述隔离腔室,所述第二气体通道未连接所述第四开口的一端连接一真空泵。

优选的,该真空计隔离装置,其中,于所述第二气体通道上设置有一第二气体阀门。

优选的,该真空计隔离装置,其中,还包括:

泄压阀门,设置在所述隔离腔室上的一第五开口处。

优选的,该真空计隔离装置,其中,于所述封闭部件接触所述第二开口的一面的两端分别设置一缓冲垫片。

上述技术方案的有益效果是:提供一种真空计隔离装置,能够于更换真空计时减少反应腔体本身与大气的接触,大大降低因更换真空计造成的腔体环境恢复时间,从而提高反应腔体的利用率,减少生产时间的浪费。

附图说明

图1是本实用新型的较佳的实施例中,现有技术中的普通隔离手阀的结构示意图;

图2是本实用新型的较佳的实施例中,真空计隔离装置在正常使用时的示意图;

图3是本实用新型的较佳的实施例中,真空计隔离装置在更换真空计时的示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是,在不冲突的情况下,本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明,但不作为本实用新型的限定。

根据现有技术中存在的上述问题,现提供一种真空计隔离装置,该装置适用于真空计,进一步地适用于将真空计安装在反应腔体的情况下。上述真空计应用在半导体制造过程中的各反应腔体上。

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