[实用新型]一种硅片清洗装置及链式机台有效
| 申请号： | 201720308800.9 | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN207103242U | 公开（公告）日： | 2018-03-16 |
| 发明（设计）人： | 侯玉;易书令;张春华;衡阳;陈佳男;郑旭然;邢国强 | 申请（专利权）人： | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 张海英,林波 |
| 地址： | 215129 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及硅片生产设备技术领域，尤其涉及一种硅片清洗装置及链式机台，该硅片清洗装置，包括水洗槽、喷淋组件和循环槽；喷淋组件包括喷头，喷头设于水洗槽的上方，循环槽设于水洗槽的下方，循环槽的槽口与水洗槽相对应，所述水洗槽包括并排设置的前洗槽和后洗槽。本实用新型提供的一种硅片清洗装置及链式机台，去除硅片上带有的药液，进而可避免如制绒液、刻蚀液、碱液、酸液等进入到其他的槽体中，从而保证各槽体中溶液的纯度，延长各槽体药液寿命，提升产能，降低制程风险；同时，其还具有结构简单的特点，可广泛应用于各类型硅片生产的链式机台中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 装置 链式 机台 | ||
【主权项】：
一种硅片清洗装置，其特征在于，包括水洗槽（1）、喷淋组件和循环槽（2）；所述喷淋组件包括喷头（3），所述喷头（3）设于所述水洗槽（1）的上方，所述循环槽（2）设于所述水洗槽（1）的下方，所述循环槽（2）的槽口与所述水洗槽（1）相对应；所述水洗槽（1）包括并排设置的前洗槽（6）和后洗槽（7）；所述喷淋组件包括多个喷头（3），一部分所述喷头（3）连接清水管路（4），另一部分所述喷头（3）通过回水管（5）与所述循环槽（2）连接；所述清水管路（4）连接的所述喷头（3）与所述水洗槽（1）的后洗槽（7）相对设置，所述回水管（5）连接的所述喷头（3）与所述水洗槽（1）的所述前洗槽（6）相对设置。
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