[实用新型]一种电射流掩膜加工系统及其喷头有效
申请号: | 201720253906.3 | 申请日: | 2017-03-15 |
公开(公告)号: | CN206550456U | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 郭钟宁;温亮;陈朝大;吴明;陈晓磊;朱晓星;邹治湘 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | B23H3/10 | 分类号: | B23H3/10;B23H11/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 罗满 |
地址: | 510062 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种电射流掩膜加工用喷头,包括筒形喷头主体,喷头主体的一侧壁上沿其延伸方向均匀设有N个进水口,喷头主体的另一侧壁上沿其延伸方向均匀设有2N个出水口,出水口的延伸方向可垂直于待加工区域,并且每一个进水口可投影于对应的两个出水口中间。本实用新型所提供的电射流掩膜加工用喷头,可以保证同时加工出来的微结构有较好的一致性,保证同时加工而成的微结构具有相同的加工形貌,降低检测难度,并且,该喷头可以同时加工出多个区域,能够有效的提高加工效率。本实用新型还公开了一种包括上述电射流掩膜加工用喷头的电射流掩膜加工系统。 | ||
搜索关键词: | 一种 射流 加工 系统 及其 喷头 | ||
【主权项】:
一种电射流掩膜加工用喷头,其特征在于,包括筒形喷头主体(1),所述喷头主体(1)的一侧壁上沿其延伸方向均匀设有N个进水口(2),所述喷头主体(1)的另一侧壁上沿其延伸方向均匀设有2N个出水口(3),所述出水口(3)的延伸方向可垂直于待加工区域,并且每一个所述进水口(2)可投影于对应的两个所述出水口(3)中间。
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