[实用新型]一种化学机械抛光用的游星轮有效
申请号: | 201720080553.1 | 申请日: | 2017-01-19 |
公开(公告)号: | CN206937073U | 公开(公告)日: | 2018-01-30 |
发明(设计)人: | 黄荣燕 | 申请(专利权)人: | 吉姆西半导体科技(无锡)有限公司 |
主分类号: | B24B37/30 | 分类号: | B24B37/30 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 | 代理人: | 曹祖良,屠志力 |
地址: | 214194 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供一种化学机械抛光用的游星轮,包括轮体,其主要改进之处在于,所述轮体包括上层轮体和下层轮体,在上下两层轮体中间设有隔板;在上下两层轮体中各开出凹槽;在凹槽中设有吸附衬垫;使用时把晶片放置于吸附衬垫,凹槽四周边沿挡住晶片;在上层轮体和下层轮体上均设有开孔,所述开孔并不贯穿游星轮,而是只开通到上层轮体和下层轮体底部,中间有隔板阻挡。该游星轮放置晶片的位置并不是开设的通孔,而是在游星轮轮体上下各设一个凹槽,里面有吸附衬垫,可以在游星轮中上下同时放置两个晶片,在对晶片进行单面抛光时,同样的时间可以抛光两倍数量的晶片,提高了抛光产能。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 游星 | ||
【主权项】:
一种化学机械抛光用的游星轮,包括轮体,其特征在于,所述轮体包括上层轮体(201)和下层轮体(202),在上下两层轮体中间设有隔板(203);在上下两层轮体中各开出凹槽;在凹槽中设有吸附衬垫(204);使用时把晶片(1)放置于吸附衬垫(204),凹槽四周边沿挡住晶片(1);在轮体上开有贯通轮体的通孔(205),通孔(205)位置避开用于放置晶片(1)的凹槽位置。
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