[实用新型]一种容器及用于对显示基板进行修复的修复设备有效
申请号: | 201720004461.5 | 申请日: | 2017-01-04 |
公开(公告)号: | CN206298639U | 公开(公告)日: | 2017-07-04 |
发明(设计)人: | 苏柯铭 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/06 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人: | 许静,刘伟 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型涉及显示技术领域,公开了一种容器及用于对显示基板进行修复的修复设备。所述容器包括第一容器本体和放置于所述第一容器本体内的第二容器本体,所述第二容器本体用于放置修复显示基板用的固体材料,所述固体材料可升华成第二气体。所述第二容器本体具有第二开口,通过设置至少两个进气口对进气管道的气体进行分流,增加气流的分布范围,使进气管道范围外的第二气体也能够被消耗,避免大范围的第二气体因长时间未被消耗,反复循环升华‑结晶之后,在相同条件下很难再次升华,造成结晶累积,浪费材料的问题,减少了材料的浪费。 | ||
搜索关键词: | 一种 容器 用于 显示 进行 修复 设备 | ||
【主权项】:
一种容器,包括:第一容器本体;与所述第一容器本体内部密封连通的进气管道和与所述第一容器本体内部密封连通的出气管道;放置于所述第一容器本体内的第二容器本体,所述第二容器本体具有第二开口,所述第二容器本体用于放置固体材料,所述固体材料可升华成第二气体,其特征在于,所述第一容器本体的内部设置有分流结构,所述分流结构包括至少两个进气口,所述第二开口与所述至少两个进气口的位置对应,且所述进气口与所述进气管道连通,从所述进气管道流入的第一气体经过所述至少两个进气口进行分流,不断流入的第一气体将所述第二气体从所述出气管道带出。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的