[发明专利]一种短波红外焦平面自适应非均匀校正算法有效
| 申请号： | 201711497486.4 | 申请日： | 2017-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN108225571B | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 周津同 | 申请（专利权）人： | 北京华科德科技有限公司 |
| 主分类号： | G01J5/00 | 分类号： | G01J5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 102200 北京市昌平区科技园区超*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种短波红外焦平面自适应非均匀校正算法，所述短波红外焦平面自适应非均匀校正算法通过对焦平面工作模型的改进和优化，采用多参数特性曲线模型计算出焦平面在各种状态的非均匀性，在焦平面工作时实时校正补偿。 | ||
| 搜索关键词： | 红外焦平面 校正算法 非均匀 自适应 短波 特性曲线 非均匀性 工作模型 模型计算 实时校正 校正模型 多参数 焦平面 出焦 对焦 优化 改进 | ||
【主权项】：
1.一种短波红外焦平面自适应非均匀校正算法，其特征在于，包括以下步骤：/n①对线性模型进行两个前提假设；/n②忽略探测单元在辐射范围较小和去除饱和时存在误差情况下，近似地认为焦平面响应是线性的,在均匀的辐射度条件下，焦平面的非均匀性线性模型用下式来表示：/nY
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华科德科技有限公司，未经北京华科德科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711497486.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
