[发明专利]一种泛曝补偿板、泛曝装置以及光刻装置有效
| 申请号： | 201711480285.3 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109991815B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 王健 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种泛曝补偿板，用于调节达到基底的泛曝光线的光强，所述泛曝补偿板包括若干个透光部与若干个挡光部，所述透光部用于泛曝光线通过，所述挡光部用于阻挡泛曝光线通过，通过调节所述透光部与所述挡光部在所述泛曝补偿板的排布比例实现调节达到所述基底的泛曝光线。本发明提供的一种泛曝补偿板能够提高曝光量率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 补偿 装置 以及 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种泛曝补偿板，其特征在于，用于调节达到基底的泛曝光线的光强，所述泛曝补偿板包括若干个透光部与若干个挡光部，所述透光部用于泛曝光线通过，所述挡光部用于阻挡泛曝光线通过，通过调节所述透光部与所述挡光部在所述泛曝补偿板的排布比例实现调节达到所述基底的泛曝光线。
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