[发明专利]一种掩膜板曝光平台及掩膜板的调整方法在审
| 申请号： | 201711474976.2 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108227402A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 毛志豪;刘伟;任思雨;苏君海;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 邓聪权 |
| 地址： | 516029 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻领域，公开了一种掩膜板曝光平台，在所述掩膜板曝光平台的平台底部设置用于调节所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀。采用该技术方案能够调整掩膜板的水平度和高度，进而提高了曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 曝光平台 水平度 光刻 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板曝光平台，其特征在于，在所述掩膜板曝光平台的平台底部设置用于调节所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀。
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