[发明专利]一种掩膜板曝光平台及掩膜板的调整方法在审
| 申请号： | 201711474976.2 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108227402A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 毛志豪;刘伟;任思雨;苏君海;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 邓聪权 |
| 地址： | 516029 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜板 曝光平台 水平度 光刻 曝光 | ||
1.一种掩膜板曝光平台，其特征在于，在所述掩膜板曝光平台的平台底部设置用于调节所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀。
2.如权利要求1所述的一种掩膜板曝光平台，其特征在于，所述调节阀采用激光测量所述掩膜板曝光平台的高度。
3.如权利要求2所述的一种掩膜板曝光平台，其特征在于，在所述掩膜板曝光平台的平台底部四个角各设置一个用于调节所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀。
4.如权利要求3所述的一种掩膜板曝光平台，其特征在于，所述调节阀顶部为半球状或碗状。
5.如权利要求4所述的一种掩膜板曝光平台，其特征在于，所述调节阀顶部嵌在所述掩膜板曝光平台，与所述掩膜板曝光平台之间留有间隙。
6.如权利要求5所述的一种掩膜板曝光平台，其特征在于，所述掩膜板曝光平台还设置有平台位置和角度调节阀。
7.一种掩膜板的调整方法，其特征在于，所述掩膜板置于如权利要求1至6中任一所述的掩膜板曝光平台上，通过调节所述掩膜板曝光平台的水平度和高度进而调节所述掩膜板的水平度和高度。
8.如权利要求7所述的一种掩膜板的调整方法，其特征在于，在所述掩膜板的四个角上分别做四个标记，CCD图像传感器测量各所述标记的图形灰度，取各图形最清晰的位置至所述CCD图像传感器的高度作为各所述标记至所述CCD图像传感器的高度，得出所述掩膜板四个角高度的偏差，将偏差值传送给所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀，通过调节所述掩膜板曝光平台的水平度和高度进而调节所述掩膜板的水平度和高度。
9.如权利要求7或8所述的一种掩膜板的调整方法，其特征在于，所述掩膜板曝光平台调节高度和水平度时，位置和角度的调节阀保持锁定，同时所述掩膜板曝光平台调节位置和角度及曝光过程中，所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀保持锁定。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利（惠州）智能显示有限公司，未经信利（惠州）智能显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711474976.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光学装置、曝光装置以及物品的制造方法
- 下一篇：曝光旋转治具
