[发明专利]一种掩膜板曝光平台及掩膜板的调整方法

说明书

本发明涉及光刻领域，公开了一种掩膜板曝光平台，在所述掩膜板曝光平台的平台底部设置用于调节所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀。采用该技术方案能够调整掩膜板的水平度和高度，进而提高了曝光精度。

技术领域

本发明涉及光刻领域，特别涉及一种掩膜板曝光平台及掩膜板的调整方法。

背景技术

在平板显示光刻制程中，曝光机精度要求一般在微米级别，而且其焦深一般在±10um以内，甚至要求更高，所以对掩膜板在掩膜板曝光平台上的水平度要求极高。一般掩膜板10都是直接放在掩膜板曝光平台20上真空吸附后进行曝光，对于掩膜板10的水平度及景深没有进行有效的控制。一旦出现掩膜板10不水平的情况，则会出现如图1和2所示，图形线宽偏差太大，严重影响了曝光机精度。掩膜板10在掩膜板曝光平台20上不水平导致焦点所在平面即聚焦面30与玻璃基板40不在同一平面，若镜头50的聚焦面30与玻璃基板40的高度差超出焦深范围，则曝出的图形精度达不到要求。

发明内容

本发明实施例的目的在于提供一种掩膜板曝光平台及掩膜板的调整方法，提高了曝光精度。

本发明实施例提供的一种掩膜板曝光平台，在所述掩膜板曝光平台的平台底部设置用于调节所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀。

可选地，所述调节阀采用激光测量所述掩膜板曝光平台的高度。

可选地，在所述掩膜板曝光平台的平台底部四个角各设置一个用于调节所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀。

可选地，所述调节阀顶部为半球状或碗状。

可选地，所述调节阀顶部嵌在所述掩膜板曝光平台，与所述掩膜板曝光平台之间留有间隙。

可选地，所述掩膜板曝光平台还设置有平台位置和角度调节阀。

另外，本发明还提供了一种掩膜板的调整方法，所述掩膜板置于如上所述的任一掩膜板曝光平台上，通过调节所述掩膜板曝光平台的水平度和高度进而调节所述掩膜板的水平度和高度。

可选地，在所述掩膜板的四个角上分别做四个标记，CCD图像传感器测量各所述标记的图形灰度，取各图形最清晰的位置至所述CCD图像传感器的高度作为各所述标记至所述CCD图像传感器的高度，得出所述掩膜板四个角高度的偏差，将偏差值传送给所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀，通过调节所述掩膜板曝光平台的水平度和高度进而调节所述掩膜板的水平度和高度。

可选地，所述掩膜板曝光平台调节高度和水平度时，位置和角度的调节阀保持锁定，同时所述掩膜板曝光平台调节位置和角度及曝光过程中，所述掩膜板曝光平台高度和水平度的调节阀保持锁定。

由上可见，应用本实施例技术方案，由于在所述掩膜板曝光平台上增加一组高度和水平度的调节阀，通过控制所述掩膜板曝光平台的高度从而达到控制掩膜板的水平及高度的作用，提高了曝光精度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为掩膜板不平整造成的曝光异常；

图2为掩膜板曝光过程示意图；

图3为本发明提供的一种掩膜板曝光平台结构示意图；

图4为本发明提供的另一种掩膜板曝光平台结构示意图；

图5为本发明提供的一种Z轴调节阀结构示意图；

图6为本发明提供的一种掩膜板结构示意图。