[发明专利]光学跟踪系统及光学跟踪方法有效
| 申请号： | 201711404643.2 | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN109938837B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 洪德和;李仁元 | 申请（专利权）人： | 株式会社高迎科技 |
| 主分类号： | A61B34/20 | 分类号： | A61B34/20;G06T7/246;G06T7/00 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种跟踪标记的位置及姿势的光学跟踪系统。标记能够附着于对象体，包括在内部形成的图案面及为了图案面借助于具有无限大焦距的第一成像部而成像而在开口形成的光学系。包括处理器，所述处理器以由通过开口而看到的图案面一部分借助于第一成像部而成像的第一图像为基础，决定标记的姿势，基于由在互不相同方向通过开口而释放的出射光，借助于具有比无限大焦距近的焦距的第二及第三成像部而成像的第二图像及第三图像，决定标记的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 跟踪 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学跟踪系统，作为跟踪标记的位置及姿势的光学跟踪系统，其中，所述标记能够附着于对象体，构成得通过在开口形成的光学系而看到在内部形成的图案面，所述光学跟踪系统包括：处理器，其以通过所述开口看到的所述图案面的一部分在无限大焦距处成像的第一图像为基础，决定所述标记的姿势，基于由在互不相同方向通过所述开口释放的出射光在比所述无限大焦距近的焦距处分别成像的第二图像及第三图像，决定所述标记的位置。
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