[发明专利]一种电光调制器的制备方法和制备系统有效
| 申请号： | 201711386958.9 | 申请日： | 2017-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN107870454B | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 李淼峰;肖希;王磊;陈代高;张宇光;胡晓;冯鹏 | 申请（专利权）人： | 武汉邮电科学研究院 |
| 主分类号： | G02F1/03 | 分类号： | G02F1/03 |
| 代理公司： | 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 | 代理人： | 张凯 |
| 地址： | 430074 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明适用于电光调制器领域，提供了一种电光调制器的制备方法和制备系统，所述制备方法包括：获取未添加表面覆盖层的电光调制器的电极的有效折射率；将覆盖材料的介电常数或折射率设置为一扫描变量，并随着所述扫描变量的变化，获取添加覆盖材料的电极的多个有效折射率；从所述多个有效折射率中获取与光波相匹配的匹配折射率，并获取与所述匹配折射率对应的覆盖材料；将所述覆盖材料覆盖在所述未添加表面覆盖层的电光调制器的电极之上。实施本发明实施例，在不增加电容或电感的情况下使电光调制器的折射率与电波的折射率相匹配，而且保证了电光调制器的整体3dB带宽的稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电光 调制器 制备 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种电光调制器的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：获取未添加表面覆盖层的电光调制器的电极的有效折射率；将覆盖材料的介电常数或折射率设置为一扫描变量，并随着所述扫描变量的变化，获取添加覆盖材料的电极的多个有效折射率；从所述多个有效折射率中获取与光波相匹配的匹配折射率，并获取与所述匹配折射率对应的覆盖材料；将所述覆盖材料覆盖在所述未添加表面覆盖层的电光调制器的电极之上。
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