[发明专利]一种双成像方法、装置及其应用有效
| 申请号： | 201711376762.1 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN108254937B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | 楼益民;吴锋民;胡娟梅 | 申请（专利权）人： | 浙江理工大学 |
| 主分类号： | G02B27/60 | 分类号： | G02B27/60;G02B30/27 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 黄欢娣;邱启旺 |
| 地址： | 310018 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明基于聚焦元件阵列层和微图文阵列层，首次提出了一种双成像方法、装置及其应用，通过像素单元构成具有待成像图形的微图文单元，所述像素单元在光源的照明下产生散射光与零级光；多个微图文单元的零级光分别聚焦后，汇聚形成第一套放大的莫尔图像；微图文单元的散射光经聚焦后形成第二套放大的莫尔图像。上述成像方法和系统具有特殊的光响应，可用于信息与图像处理、防伪安全、包装装饰等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 成像 方法 装置 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种双成像方法，该方法通过像素单元构成具有待成像图形的微图文单元，所述像素单元在光源的照明下产生散射光与零级光；多个微图文单元的零级光分别聚焦后，汇聚形成第一套放大的莫尔图像；微图文单元的散射光经聚焦后形成第二套放大的莫尔图像。
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