[发明专利]一种双成像方法、装置及其应用有效

专利信息
申请号: 201711376762.1 申请日: 2017-12-19
公开(公告)号: CN108254937B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 楼益民;吴锋民;胡娟梅 申请(专利权)人: 浙江理工大学
主分类号: G02B27/60 分类号: G02B27/60;G02B30/27
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 黄欢娣;邱启旺
地址: 310018 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 成像 方法 装置 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种双成像方法,该方法通过像素单元构成具有待成像图形的微图文单元,所述像素单元在光源的照明下产生散射光与零级光;零级光方向与入射光线或其镜面反射光线的方向相同;多个微图文单元的零级光分别聚焦后,汇聚形成第一套放大的莫尔图像;微图文单元的散射光经聚焦后形成第二套放大的莫尔图像;

散射光与零级光的能量的比例在10%-90%之间。

2.一种双成像装置,其特征在于,包括聚焦元件阵列层和微图文阵列层,所述微图文阵列层中的微图文单元和聚焦元件阵列层中的聚焦元件一一对应;所述微图文单元由像素单元组成;像素单元构成具有待成像图形的微图文单元,所述像素单元在光源的照明下产生散射光与零级光;零级光方向与入射光线或其镜面反射光线的方向相同;多个微图文单元的零级光分别经聚焦元件聚焦后,汇聚形成第一套放大的莫尔图像;微图文单元的散射光经聚焦元件聚焦后形成第二套放大的莫尔图像;散射光与零级光的能量的比例在10%-90%之间。

3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述微图文单元不在聚焦元件的一倍焦距处。

4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,微图文单元位于所述聚焦元件阵列层的一倍焦距以内,或微图文单元位于所述聚焦元件阵列层的一倍焦距之外。

5.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述像素单元为散射单元,散射光与直接透射光的比率在10%-90%之间;散射光的发散角可控,小于10°。

6.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述聚焦元件单元阵列层中,聚焦元件单元的排列方式包括:具有对称轴的正交排列、蜂窝状排列、没有对称轴的低对称性排列或随机排列;所述微图文单元的排列方式与所述聚焦单元的排列方式相同。

7.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述聚焦元件单元可采用柱面微透镜、球面透镜、非球面透镜、菲涅耳透镜;所述聚焦元件单元的口径可以是圆形、正方形、长方形、六边形、多边形。

8.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,所述装置还包括基材层,用于固定所述聚焦元件阵列层和微图文阵列层。

9.权利要求1所述的方法或权利要求2所述的装置在信息与图像处理、防伪安全、包装装饰中的应用。

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