[发明专利]一种用于蓝宝石3D抛光的抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 201711375996.4 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN107987731B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 裴亚利;张忆;靳桂姻 | 申请（专利权）人： | 北京航天赛德科技发展有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/302 | 分类号： | H01L21/302 |
| 代理公司： | 北京方韬法业专利代理事务所(普通合伙) 11303 | 代理人： | 马丽莲 |
| 地址： | 100000 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于蓝宝石3D抛光的抛光液及其制备方法，所述抛光液包括如下重量百分含量的组分：二氧化硅胶体10‑50％、分散剂0.01‑0.5％、氧化剂0.01‑0.5％、络合剂0.01‑0.2％、表面活性剂0.01‑0.5％、消泡剂0.01‑0.5％，适量pH调节剂调节pH值在8.5‑11.5，余量为去离子水；其中，二氧化硅胶体粒径为40‑150nm。本发明的抛光液适合利用具有软质刷头的3D扫光机对蓝宝石材料的3D的曲面或薄片进行抛光，抛光液的粘度值较高，在10‑15cp(厘泊)，可以很好地附着在3D扫光机上盘的软质刷头上，增加与被抛光蓝宝石的摩擦几率，抛光效率高、蓝宝石表面质量缺陷率极低，从而带来理想的抛光结果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 蓝宝石 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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