[发明专利]一种光学材料清洗液有效
| 申请号： | 201711361330.3 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN108048227B | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | 潘国顺;陈高攀;罗海梅;徐莉;罗桂海;周艳;邹春莉 | 申请（专利权）人： | 清华大学;深圳清华大学研究院 |
| 主分类号： | C11D1/34 | 分类号： | C11D1/34;C11D3/60;C11D3/32;C11D3/33;C11D3/20;C11D3/04;C11D3/06;C11D3/10;C11D3/30 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 廖元秋 |
| 地址： | 100084*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学材料清洗液，属于光学材料清洗技术领域。本发明的清洗液包括阴离子表面活性剂、氢键破坏剂、络合剂、醇类、PH调节剂、盐和水，本发明适用于熔石英、K9玻璃及微晶玻璃等光学材料抛光后表面颗粒的清洗。将本发明清洗液稀释1～10倍后，将抛光后的光学材料在清洗液中超声清洗5～10分钟，然后在去离子水中超声清洗1～10分钟去除光学材料表面的清洗液。使用该清洗液可以去除抛光后光学材料表面的污染物，包括有机污染物、颗粒和离子残留等。本发明清洗液中所含有的氢键抑制剂可以克服抛光后光学材料表面容易吸附颗粒的缺点，有效的去其除表面颗粒。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学材料 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种光学材料清洗液，其特征在于，该清洗液包括阴离子表面活性剂、氢键破坏剂、络合剂、醇类、PH调节剂、盐和水；该清洗液的组分重量配比为：阴离子表面活性剂：0.01～10wt％；氢键破坏剂：0.1～1wt％；络合剂：0.1～5wt％；醇类：1～10wt％；PH调节剂：0.1～10wt％；盐：0.1～2wt％；去离子水：余量。
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