[发明专利]一种光学材料清洗液

说明书

本发明涉及一种光学材料清洗液，属于光学材料清洗技术领域。本发明的清洗液包括阴离子表面活性剂、氢键破坏剂、络合剂、醇类、PH调节剂、盐和水，本发明适用于熔石英、K9玻璃及微晶玻璃等光学材料抛光后表面颗粒的清洗。将本发明清洗液稀释1～10倍后，将抛光后的光学材料在清洗液中超声清洗5～10分钟，然后在去离子水中超声清洗1～10分钟去除光学材料表面的清洗液。使用该清洗液可以去除抛光后光学材料表面的污染物，包括有机污染物、颗粒和离子残留等。本发明清洗液中所含有的氢键抑制剂可以克服抛光后光学材料表面容易吸附颗粒的缺点，有效的去其除表面颗粒。

技术领域

本发明涉及一种光学材料清洗液，属于光学材料清洗技术领域，特别涉及一种用于熔石英、K9玻璃及微晶玻璃抛光后表面颗粒清洗的技术领域。

背景技术

随着光学系统性能的不断提升，近年来光学元、部件的精度指标，表面质量等要求也越来越高。化学机械抛光过程作为光学元件的重要的加工工序，能够消除光学材料表面机械损伤、残留的亚表面裂纹及残余应力等缺陷，但是抛光后材料表面不可避免的会出现有机物、颗粒及金属离子等残留。尤其是作为典型光学材料的熔石英、K9玻璃及微晶玻璃等材料，抛光后表面存在大量活性羟基，极易与抛光液中的颗粒羟基形成氢键，使得材料表面吸附大量颗粒，很难清洗，从而降低光学元件激光损伤阈值。

涉及玻璃的清洗液的专利，目前报道较多如：CN 102504978 A，CN 102994254 A，CN101434891A，CN101580773A，CN102504980A等，但他们都是关于普通玻璃，如汽车玻璃表面污渍的清洗。专利CN105251745A公开了古典法抛光拼盘加工K9玻璃和熔石英元件的清洗方法，对精密抛光后的元件表面有机污染物和抛物粉残留颗粒有较高清洗效率。但是该专利中使用毒性较大的四氯化碳溶液作为清洗液，且步骤复杂，不适于大规模使用。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术中的不足，提出了一种光学材料清洗液，使用该清洗液可以破坏抛光后光学材料表面羟基与颗粒间形成的氢键，并通过其它化学试剂将颗粒带离材料表面，可以有效的避免颗粒的吸附。同时清洗液中的其它化学试剂可以去除光学材料表面的有机物及金属离子残留，避免了光学材料化学机械抛光后表面污染问题。

一种光学材料清洗液，其特征在于，该清洗液包括阴离子表面活性剂、氢键破坏剂、络合剂、醇类、PH调节剂、盐和水；该清洗液的组分重量配比为：

阴离子表面活性剂：0.01～10wt％；

氢键破坏剂：0.1～1wt％；

络合剂：0.1～5wt％；

醇类：1～10wt％；

PH调节剂：0.1～10wt％；

盐：0.1～2wt％；

去离子水：余量。

所述阴离子表面活性剂5-10wt％，氢键抑制剂0.1-0.3wt％，络合剂2-5wt％，醇类7-10wt％、PH调节剂0.1-2wt％，盐0.5-0.6wt％，去离子水余量。

所述阴离子表面活性剂为磷酸酯系列表面活性剂，包括：脂肪醇醚磷酸酯(MOA-3P)、脂肪醇醚磷酸酯(MOA-9P)、酚醚磷酸酯(TXP-4)、酚醚磷酸酯(TXP-10)、脂肪醇醚磷酸酯钾盐(MOA-3PK-40)、脂肪醇醚磷酸酯钾盐(MOA-3PK-70)、酚醚磷酸酯钾盐(NP-4PK)、酚醚磷酸酯钾盐(NP-10PK-40)、酚醚磷酸酯钾盐(NP-10PK-80)、异十三醇磷酸酯(ITAP)、异十三醇醚(6)磷酸酯钾盐(IT6APK)、月桂基磷酸酯(MA24P)、月桂基磷酸酯钾盐(MA24PK-30)、月桂基磷酸酯或钾盐(MA24PK-50)中的一种或几种。